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CVD-1700CVD-1700真空系統

簡要描述:

1700℃真空CVD系統由高溫管式爐,高真空擴散泵/分子泵系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,自動壓強控制系統等組成??蓪崿F本底真空達0.001—0.0001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

1700℃真空CVD系統由高溫管式爐,高真空擴散泵/分子泵系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,自動壓強控制系統等組成??蓪崿F本底真空達0.0010.0001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

主要功能和特點:

1、真空系統可根據使用要求選擇我司擴散泵機組或分子泵機組;

2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制;

3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計,流量顯示儀等組成,實現氣體的流量的精密測量和控制;

4、每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的安全可靠。

5、采用水冷KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;

6、管路采用世界頂級Swagelok卡套連接,不漏氣;

7、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,保證設備及實驗的安全性。

主要用途:

適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長等場所。

主要技術參數:

SGL-1700高溫爐

控溫方式

采用人工智能調節技術,具有PID調節、自整定功能,并可編制50段升降溫程序。

加熱元件

進口1700型優質硅鉬棒

工作電源

AC220V    50Hz/60Hz;額定功率6kw

爐管材質

99瓷氧化鋁剛玉管

爐管尺寸

Φ60/80/100*/1000mm

工作溫度

1600

最高溫度

1650

恒溫精度

±1

升溫速度

10/min

測溫元件

B型熱電偶

密封方式

不銹鋼水冷KF法蘭擠壓密封

ZK真空系統

 

ZK-F

ZK-K

真空范圍

0.1-0.001Pa

0.1-0.01Pa

極限真空

5.0*10^-5Pa

5.0*10^-4Pa

產品配置

雙級旋片真空泵+分子泵

雙級旋片真空泵+擴散泵

冷卻方式

風冷

水冷

   

110L/S

100L/S

測量方式

復合真空計

真空規管

電阻規+電離規

ZDC-I壓強控制系統

測量范圍

1*10^51*10^-1 Pa

穩壓(真空)范圍

1*10^31*10Pa

壓力(穩定精度)

±3%

控制范圍

2.5*10^35*10^-1 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-Ⅲ混氣系統

控制方式

D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀

流量規格(可訂制)

0500SCCM /01SLM,

   

±1%F.S.

準確度

±1%F.S.

重復精度

±0.2%F.S.

響應時間

2sec

   

3MPa

氣路通道

3通道(根據客戶需求)

   

316不銹鋼

   

Φ6mm不銹鋼管

   

SwagelokΦ6mm

 

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